Offerta Didattica
ENGINEERING AND COMPUTER SCIENCE
MICRO ELECTRO-MECHANICAL SYSTEMS
Classe di corso: LM-32, 18 - Classe delle lauree magistrali in Ingegneria informatica
AA: 2017/2018
Sedi: MESSINA
SSD | TAF | tipologia | frequenza | moduli |
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ING-INF/01 | A scelta dello studente | Libera | Libera | No |
CFU | CFU LEZ | CFU LAB | CFU ESE | ORE | ORE LEZ | ORE LAB | ORE ESE |
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6 | 4.5 | 0 | 1.5 | 60 | 36 | 0 | 24 |
LegendaCFU: n. crediti dell’insegnamento CFU LEZ: n. cfu di lezione in aula CFU LAB: n. cfu di laboratorio CFU ESE: n. cfu di esercitazione FREQUENZA:Libera/Obbligatoria MODULI:SI - L'insegnamento prevede la suddivisione in moduli, NO - non sono previsti moduli ORE: n. ore programmate ORE LEZ: n. ore programmate di lezione in aula ORE LAB: n. ore programmate di laboratorio ORE ESE: n. ore programmate di esercitazione SSD:sigla del settore scientifico disciplinare dell’insegnamento TAF:sigla della tipologia di attività formativa TIPOLOGIA:LEZ - lezioni frontali, ESE - esercitazioni, LAB - laboratorio
Obiettivi Formativi
Il Corso di MEMs si propone di fornire agli studenti le conoscenze di base relative allo sviluppo, caratterizzazione e impiego di microattuatori e microsensori. Vengono inoltre sviluppate competenze per l’interfacciamento di sensori nella realizzazione di sistemi di misura.Learning Goals
Metodi didattici
Congruentemente con gli obiettivi formativi, il corso è articolato in 36 ore di didattica frontale dedicata agli aspetti fondamentali dei MEMS e 24 ore di esercitazioni.Teaching Methods
Prerequisiti
Conoscenze di base dei corsi di Elettronica 1 e Sistemi Elettronici.Prerequisites
Verifiche dell'apprendimento
L'esame finale consiste in una relazione riguardante un argomento a scelta del corso, concordato con il docente, e nella discussione orale su vari argomenti trattati durante il corso.Assessment
Programma del Corso
Tecnologie di fabbricazione basate sulla micro-lavorazione del silicio (micromachining): Bulk micromachining; surface micromachining; metodi epitassiali; electroplating; taglio wafer (dicing); wafer/wafer bonding, etching: attacchi wet e dry, isotropi e anisotropi. Microattuatori, microsensori, MEMS: Principi di attuazione meccanica e termica; strutture di attuazione e rivelazione; esempi applicativi di sensori inerziali, accelerometri, giroscopi, sensori di pressione, Risonatori SAW. Materiali sensibili: Ossidi metallici semiconduttivi nanostrutturati, nanotubi di carbonio Multi-walled e Single-walled, grafene, funzionalizzazione e meccanismi di risposta. Sensori: Parametri caratterizzanti: tempi di risposta e di recupero, sensibilità, selettività, ripetibilità, curva di calibrazione. Metodologie di caratterizzazione elettrica di sensori di gas, sensori chimici a risposta resistiva, Sensori QCM e SAW, cenni su dispositivi CHEMFET, Packaging: Tipi di package, die attach, saldatura dei fili, materiali, test di affidabilità del package. Circuiti di interfacciamento: Circuiti di interfaccia per sensori capacitivi e resistivi; esempi applicativi con sistemi embedded.Course Syllabus
Testi di riferimento: Materiale didattico a cura del docente.
Esami: Elenco degli appelli
Elenco delle unità didattiche costituenti l'insegnamento
MICRO ELECTRO-MECHANICAL SYSTEMS
Docente: NICOLA DONATO
Orario di Ricevimento - NICOLA DONATO
Giorno | Ora inizio | Ora fine | Luogo |
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Giovedì | 11:00 | 12:30 | Blocco B terzo/sesto piano |
Note: