Offerta Didattica

 

PHYSICS

FISICA DELLA NANOTECNOLOGIE

Classe di corso: LM-17 - Fisica
AA: 2019/2020
Sedi: MESSINA
SSDTAFtipologiafrequenzamoduli
FIS/03CaratterizzanteLiberaLiberaNo
CFUCFU LEZCFU LABCFU ESEOREORE LEZORE LABORE ESE
75205430240
Legenda
CFU: n. crediti dell’insegnamento
CFU LEZ: n. cfu di lezione in aula
CFU LAB: n. cfu di laboratorio
CFU ESE: n. cfu di esercitazione
FREQUENZA:Libera/Obbligatoria
MODULI:SI - L'insegnamento prevede la suddivisione in moduli, NO - non sono previsti moduli
ORE: n. ore programmate
ORE LEZ: n. ore programmate di lezione in aula
ORE LAB: n. ore programmate di laboratorio
ORE ESE: n. ore programmate di esercitazione
SSD:sigla del settore scientifico disciplinare dell’insegnamento
TAF:sigla della tipologia di attività formativa
TIPOLOGIA:LEZ - lezioni frontali, ESE - esercitazioni, LAB - laboratorio

Obiettivi Formativi

Approfondire le conoscenze sugli aspetti fisici di base delle nanotecnologie, sulle tecniche di preparazione di nanostrutture e dei materiali nanostrutturati, sulle tecniche necessarie alla loro caratterizzazione ed alla manipolazione con particolare riferimento alle tecniche di microscopia a scansione a sonda.

Learning Goals


Metodi didattici

Lezioni frontali con l'ausilio di supporti multimediali. Lezioni ed esercitazioni in laboratorio

Teaching Methods


Prerequisiti

Conoscenze di base di fisica della materia, ottica, meccanica quantistica.

Prerequisites


Verifiche dell'apprendimento

Prove in Itinere ed esame orale.

Assessment


Programma del Corso

Aspetti fisici di base delle nanotecnologie: definizioni, motivazioni e concetti fondamentali. Tecnologie per la fabbricazione: tecniche fisiche e chimico-fisiche (MBE, MO-MBE, sputtering, PLAD, PE-CVD, LPE, deposizione da fase liquida e sol-gel, auto assemblaggio molecolare). Tecniche di microscopia: microscopia ottica convenzionale e confocale, microscopia elettronica SEM e TEM, microanalisi, litografia EBL, SCALPEL e FIB. Litografia ottica e tecnologia del resist, limite di diffrazione e strategie per superarlo. Tecniche di microscopia a scansione a sonda: AFM, FFM, EFM, STM, SNOM; litografie a scansione di sonda; cenni sulla nanolitografia ottica di materiali fotoattivi . Proprietà ottiche di sistemi a bassa dimensionalità. Plasmoni di superficie in nano particelle metalliche,confinamento quantico in semiconduttori. Proprietà di trasporto in sistemi a bassa dimensionalità; effetto Hall quantistico, magnetoresistenza gigante. Singole nanostrutture: tecniche per la produzione di nanofili e nanotubi; proprietà fisiche ed applicazioni dei nanotubi di carbonio (morfologia, struttura, proprietà elettroniche). Proprietà ottiche ed elettroniche di sistemi molecolari. Dispositivi per l'optoelettronica basati sui materiali organici. La microscopia acustica. Strutture dielettriche multistrato a film sottile.

Course Syllabus


Testi di riferimento: - G. Timp. Nanotechnology, Spinger-Verlag (1999). - C.P. Poole Jr and F. Owens, Introduction to nanotechnology, Wiley (2003). - B. Bushan (ed.), Springer Handbook of nano-technology, Springer (2004). - J.M. Tour, Molecular Electronics, World Scientific (2003).

Elenco delle unità didattiche costituenti l'insegnamento

Docente: SALVATORE PATANE'

Orario di Ricevimento - SALVATORE PATANE'

GiornoOra inizioOra fineLuogo
Lunedì 09:00 11:00Ufficio sito al primo piano blocco D ex Fcoltà di Scienze, Dipartimento MIFT
Mercoledì 09:00 11:00Ufficio sito al primo piano blocco D ex Fcoltà di Scienze, Dipartimento MIFT
Note:
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