Offerta Didattica
PHYSICS
FISICA DELLA NANOTECNOLOGIE
Classe di corso: LM-17 - Fisica
AA: 2019/2020
Sedi: MESSINA
SSD | TAF | tipologia | frequenza | moduli |
---|---|---|---|---|
FIS/03 | Caratterizzante | Libera | Libera | No |
CFU | CFU LEZ | CFU LAB | CFU ESE | ORE | ORE LEZ | ORE LAB | ORE ESE |
---|---|---|---|---|---|---|---|
7 | 5 | 2 | 0 | 54 | 30 | 24 | 0 |
LegendaCFU: n. crediti dell’insegnamento CFU LEZ: n. cfu di lezione in aula CFU LAB: n. cfu di laboratorio CFU ESE: n. cfu di esercitazione FREQUENZA:Libera/Obbligatoria MODULI:SI - L'insegnamento prevede la suddivisione in moduli, NO - non sono previsti moduli ORE: n. ore programmate ORE LEZ: n. ore programmate di lezione in aula ORE LAB: n. ore programmate di laboratorio ORE ESE: n. ore programmate di esercitazione SSD:sigla del settore scientifico disciplinare dell’insegnamento TAF:sigla della tipologia di attività formativa TIPOLOGIA:LEZ - lezioni frontali, ESE - esercitazioni, LAB - laboratorio
Obiettivi Formativi
Approfondire le conoscenze sugli aspetti fisici di base delle nanotecnologie, sulle tecniche di preparazione di nanostrutture e dei materiali nanostrutturati, sulle tecniche necessarie alla loro caratterizzazione ed alla manipolazione con particolare riferimento alle tecniche di microscopia a scansione a sonda.Learning Goals
Metodi didattici
Lezioni frontali con l'ausilio di supporti multimediali. Lezioni ed esercitazioni in laboratorioTeaching Methods
Prerequisiti
Conoscenze di base di fisica della materia, ottica, meccanica quantistica.Prerequisites
Verifiche dell'apprendimento
Prove in Itinere ed esame orale.Assessment
Programma del Corso
Aspetti fisici di base delle nanotecnologie: definizioni, motivazioni e concetti fondamentali. Tecnologie per la fabbricazione: tecniche fisiche e chimico-fisiche (MBE, MO-MBE, sputtering, PLAD, PE-CVD, LPE, deposizione da fase liquida e sol-gel, auto assemblaggio molecolare). Tecniche di microscopia: microscopia ottica convenzionale e confocale, microscopia elettronica SEM e TEM, microanalisi, litografia EBL, SCALPEL e FIB. Litografia ottica e tecnologia del resist, limite di diffrazione e strategie per superarlo. Tecniche di microscopia a scansione a sonda: AFM, FFM, EFM, STM, SNOM; litografie a scansione di sonda; cenni sulla nanolitografia ottica di materiali fotoattivi . Proprietà ottiche di sistemi a bassa dimensionalità. Plasmoni di superficie in nano particelle metalliche,confinamento quantico in semiconduttori. Proprietà di trasporto in sistemi a bassa dimensionalità; effetto Hall quantistico, magnetoresistenza gigante. Singole nanostrutture: tecniche per la produzione di nanofili e nanotubi; proprietà fisiche ed applicazioni dei nanotubi di carbonio (morfologia, struttura, proprietà elettroniche). Proprietà ottiche ed elettroniche di sistemi molecolari. Dispositivi per l'optoelettronica basati sui materiali organici. La microscopia acustica. Strutture dielettriche multistrato a film sottile.Course Syllabus
Testi di riferimento: - G. Timp. Nanotechnology, Spinger-Verlag (1999).
- C.P. Poole Jr and F. Owens, Introduction to nanotechnology, Wiley (2003).
- B. Bushan (ed.), Springer Handbook of nano-technology, Springer (2004).
- J.M. Tour, Molecular Electronics, World Scientific (2003).
Esami: Elenco degli appelli
Elenco delle unità didattiche costituenti l'insegnamento
Docente: SALVATORE PATANE'
Orario di Ricevimento - SALVATORE PATANE'
Giorno | Ora inizio | Ora fine | Luogo |
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Lunedì | 09:00 | 11:00 | Ufficio sito al primo piano blocco D ex Fcoltà di Scienze, Dipartimento MIFT |
Mercoledì | 09:00 | 11:00 | Ufficio sito al primo piano blocco D ex Fcoltà di Scienze, Dipartimento MIFT |
Note: